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產(chǎn)品展示
  • 恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-1000L

    恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-1000L

    深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途: 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電,靜電吸附了硅屑,清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì),要在微酸性水中和才能去除,又不能有別的離子進(jìn)入,所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機(jī)和超聲波清洗機(jī).
  • 恩樂科7噸大流量EDI替換SUEZ MK-7E   7T/H 。

    恩樂科7噸大流量EDI替換SUEZ MK-7E 7T/H 。

    恩樂科7噸大流量EDI,ELK-7E無縫替換SUEZ MK-7. 標(biāo)準(zhǔn)流量 7T/H
  • 恩樂科8噸大流量EDI ELK-80X  有極水排放 質(zhì)保3年 標(biāo)準(zhǔn)流量8T/H。

    恩樂科8噸大流量EDI ELK-80X 有極水排放 質(zhì)保3年 標(biāo)準(zhǔn)流量8T/H。

    恩樂科8噸大流量EDI ELK-80X 有極水排放 質(zhì)保3年。 標(biāo)準(zhǔn)流量8T/H
  • 恩樂科8噸大流量EDI ELK-8E 有極水排放   8T/H 質(zhì)保3年。

    恩樂科8噸大流量EDI ELK-8E 有極水排放 8T/H 質(zhì)保3年。

    恩樂科8噸大流量EDI ELK-9E 有極水排放 8T/H 質(zhì)保3年。
  • 恩樂科二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-3500LS超純水防靜電裝置(觸摸屏款)

    恩樂科二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-3500LS超純水防靜電裝置(觸摸屏款)

    恩樂科二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-3500LS超純水防靜電裝置 深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途: 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電,靜電吸附了硅屑,清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì),要在微酸性水中和才能去除,又不能有別的離子進(jìn)入,所以需要注入純凈的CO2。
  • 恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-3HT,替換MK-3 pharm HT

    恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-3HT,替換MK-3 pharm HT

    恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-3HT,用于食品、生物制藥、化妝品等無菌超純水的行業(yè)??商鎿QMK-3 pharm HT
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