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二氧化碳發(fā)泡機

恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-3500L

恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler   ELK-3500L
案例詳情

深圳恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途:
一是芯片切割劃片時帶有靜電,靜電吸附了硅屑,清洗不干凈。
二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì),要在微酸性水中和才能去除,又不能有別的離子進入,所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機使用。

型號:ELK-500L ELK-1000L  ELK-2000L  ELK-3500L  ELK-4000L  ELK-5000L   ELK-7000L   ELK-100000L

“恩樂科”品牌二氧化碳發(fā)泡機產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品功能:

超純水防靜電裝置,又稱co2 bubbler(二氧化碳發(fā)泡機、二氧化碳鼓泡機),去離子水電阻率調(diào)節(jié)裝置,加碳機等等。其原理是向高電阻率的純水中添加高純二氧化碳, 在水中產(chǎn)生適量的離子增強純水的導(dǎo)電性,降低純水的電阻率,防止在晶圓劃片制程、清洗等半導(dǎo)體、TFT加工過程中產(chǎn)生靜電損傷產(chǎn)品,消除硅屑的靜電吸附便于清洗干凈, 最后烘干后二氧化碳揮發(fā)不殘留任何雜質(zhì),不造成二次污染。超純水防靜電裝置和設(shè)備,可有效控制微電子工業(yè)生產(chǎn)制程中的靜電危害,防止靜電吸附導(dǎo)致產(chǎn)品因靜電放電受到損傷, 防止靜電破壞和微粒子的表面附著,大大提高產(chǎn)品良品率,降低生產(chǎn)成本。

設(shè)備原理: 
本公司經(jīng)過多年的研發(fā)和試驗,生產(chǎn)ELK 系列超純水防靜電裝置,本裝置全部采進口優(yōu)質(zhì)材料和儀表,設(shè)計原理是通過膜接觸器來實現(xiàn)超純水的潔凈CO2 無污染注入。膜接觸器的特點是氣體可以透析式穿過膜表面均勻溶解到水里,而水和微粒雜質(zhì)卻很難透過膜。用這種特制膜將CO2 氣體和超純水隔開, 通過設(shè)備中的精密調(diào)節(jié)裝置可以控制CO2 在水中的溶解量, 從而實現(xiàn)精確控制水的電阻率。產(chǎn)品水的電阻率可以很方便且精確地調(diào)整到0.1-2MΩ?cm范圍內(nèi)。此產(chǎn)品可以消除產(chǎn)品表面產(chǎn)生的靜電對產(chǎn)品造成靜電吸附污染、靜電放電損傷等危害,大大提高了產(chǎn)品的良品率。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于微電子和半導(dǎo)體行業(yè),價格只有進口產(chǎn)品的二分之一左右, 經(jīng)過多家客戶2年以上的測試評價, 結(jié)論是完全可以是替代進口產(chǎn)品。 
設(shè)備特點: 
1、全部材料采用進口超純水管配件和儀表 
2、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單緊湊, 占地少,安裝方便,故障率低 
3、零延遲響應(yīng)流量變化,保證產(chǎn)水電阻率的高穩(wěn)定性 
4、用氣省,耗電少,節(jié)能環(huán)保 
5、低用水流量情況下電阻率值的精確穩(wěn)定控制
6、自適應(yīng)混合方式,產(chǎn)品水的電阻率可以很方便且精確地調(diào)整到0.1-2MΩ?cm范圍內(nèi) 
7、純機械靜態(tài)方式工作,故障率極低 
8、采用最先進透氣膜方式以及無需空氣切入, 產(chǎn)水品質(zhì)完全超越同類產(chǎn)品

型號:   

ELK-500L ELK-1000L  、ELK-2000L 、ELK-3500L 、ELK-4000L 、ELK-5000L 、ELK-6000L 、ELK-7000L、 ELK-8000L

ELK-10000L、ELK-15000L 、ELK-20000L、ELK-25000L、ELK-30000L

流量范圍:1-100M3/H

適用行業(yè):

1、 微電路芯片切割和清洗2、光掩膜切割和清洗 3、晶元片切割和清洗 4、半導(dǎo)體硅片切割和清洗5、太陽能電池片切割和清洗 6、TFT面板切割和清洗 7、特殊工業(yè)的控制超純水電阻 



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